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半导体控温设备生产公司，-120℃~+250℃设备冷水机，制冷循环器等设备推荐。
我们公司有丰富的半导体行业产品控温经验，产品覆盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、抛光等多种过程控温。产品包括：制冷加热循环器，低温制冷，无压缩机换热单元等，控温精度高达±0.05℃
半导体制造是一个对环境要求极高的过程，许多工艺步骤对温度非常敏感。
例如，在光刻工艺中，光刻机的光学系统需要在稳定的温度环境下工作，因为温度的微小变化可能导致光路的偏差，进而影响光刻的精度。在化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等工艺中，反应温度直接影响薄膜的质量和性能。精确的温度控制能够确保沉积的薄膜厚度均匀、成分准确，从而提高芯片的性能和良率。
icooler系列制冷循环器控温精度高，可在-100℃~+90℃之间任意切换，具有良好的温度跟随性；先进的低温制冷技术，支持-100℃~ -80℃超低温控温。
半导体、液晶和太阳能电池板等设备的⽣产设施中使⽤的设备、⽣产流程、检验流程及空间，需要⾼度精确和稳定的空⽓处理。为了满⾜这些需求，全区域空⽓处理将需要极⾼的相关费⽤和维护成本
品质洁净型⻛机、洁净型箱体、⼯艺，避免⼆次环境污染；可适配部分新⻛功能，更加⽅便满⾜特殊使⽤环境的暖通要求，⼜能满⾜⼯艺要求；常年⼯作，可靠性更⾼
我司采⽤⾼品质高低温循环器⽅便满⾜特殊使⽤环境的暖通要求避免⼆次环境污染；可适配部分新⻛功能，更加，⼜能满⾜⼯艺要求；常年⼯作，可靠性更⾼。
